日本產業技術綜合研究所（產綜研）近日宣布，通過把納米壓印與絲網印刷融合到一起，開發出了能夠利用與過去一樣的印刷原版，使線條粗細縮小到原版圖案1/30以下的超微細印刷技術。

        該技術首先通過納米壓印成型，在薄膜表面形成從納米到微米不等的凹凸結構。在擁有凹凸結構的薄膜上進行絲網印刷后，借助毛細管作用，可以在凹凸的微小間隙中填充功能性墨水。因為不需要像過去的技術那樣對原版圖案的開口部進行微細化，所以不會發生墨水堵塞的問題，有助于提高量產效率。

        使用過去的印刷技術（原版開口寬度為200μm）制作的導電膜的光（波長550納米）透射率為43%。而使用此次新開發的技術，可印刷線寬為3μm的超微細布線，導電膜的透射率達到了90%。在印刷之前，薄膜本身的透射率為91%，布線對于透射率的影響微乎其微。

        另外，使用過去的印刷技術時，如果微細化程度增加，布線的高度會降低，導致薄膜電阻增大。而此次開發的新技術將墨水封閉在了凹凸結構的微小縫隙內，即使布線微細化，也可以維持原來的高度，從而抑制薄膜電阻增大。

        這項技術可以用來印刷高密度的微細布線，理論上可以印刷0.1μm以下的微細圖案。通過結合薄膜嵌入成型技術，還可以在曲面印刷圖案。而且有望通過非常微細的印刷圖案提高墨水的顯色性能等。（來源：日經技術在線 撰稿：工藤宗介）